PHASE SHIFT MASK(PSM掩模),通过MOSI层产生180°的相位差以降低光的衍射作用,从而提高掩模图形分辨率

        相移掩模技术优点:减少临近效应,利用光的相干性,抵消部分衍射扩展效应,改变空间光强分布,使更多的能量从低频分配到高频上,弥补投影物镜通低频阻高频的缺点,提高空间图像的反差,改变像质,使分辨率和焦深增大

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